- Producent:
- SENTECH
Reaktowy plazmowwe do osadzania cienkich warstw techniką PECVD firmy Sentech.
- wspomagane plazmą osadzanie warstw dialektycznych z fazy gazowej
- stabilne źródło plazmy CCP lub ICP
- szczelna komora reakcyjna i komora ładowania z transferem próbek
- podłoża do 8", unikatowe systemy mocowania
- temperatura podłoży do 350oC
- osadzanie SiO2, NiNx, a-Si, SiC, TEOS
- wysoka jakość warstw nawet <100oC
- zastosowania: maski, warstwy pasywujące, ochronne i dialektyczne
- techniki detekcji punktu końcowego
- kilka modeli, w tym ICPECVD SI 500 D
Skontaktuj się z dystrybutorem
Dystrybutor
LABSOFT Sp. z o.o.
- Adres: Puławska 469, 02-844 Warszawa
-
Nr telefonu: (+48 22) 853 27 93
- E-mail: info@labsoft.pl
- WWW: www.labsoft.pl
Przy kontakcie powołaj się na portal laboratoria.xtech.pl
RSS
