Reaktor do reaktywnego trawienia jonowego RIE

Modularne systemy firmy SENTECH Instruments GmbH do reaktywnego trawienia jonowego (RIE) dedykowane są głównie dla trawienia półprzewodników grup III-V, krzemu oraz związków krzemu, kwarcu oraz wybranych metali.

Wysoka jakość kontroli warunków obróbki jonowej umożliwia prowadzenie nawet najbardziej wymagających procesów w sposób powtarzalny. Plazma jest generowana pojemnościowo (CCP) z wykorzystaniem generatora RF o częstotliwości 13,56 MHz i mocy 600 W. Komora reakcyjna wykonana jest z aluminium bez połączeń spawanych i skręcanych, co zapewnia jej szczelność. Podłoża wprowadzane są przez komorę ładowania wyposażoną w transfer. Ciśnienie w komorach jest kontrolowane przez automatyczny układ próżniowy. Natomiast temperaturę podłoża w czasie obróbki można regulować w zakresie od 5 do 80 °C. Układ podawania gazów składa się z 4 linii (opcjonalnie do 8) wyposażonych w filtry i kontrolery przepływu. Łatwe w obsłudze oprogramowanie umożliwia automatyczne i ręczne sterowanie procesami, tworzenie i wykonywanie własnych procedur oraz rejestrację wszystkich danych procesowych. Ponadto, systemy można doposażyć w laserowy układ pomiaru głębokości trawienia oraz detekcji punktu końcowego (SLI). Dostępne są dwa modele, różniące się rozmiarem akceptowanych podłoży.